磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點和缺點有哪些？

時間：2021-11-09作者：廣東振華科技股份有限公司廣東廣州分公司瀏覽：864

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  詞條說明

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理

  ? ? ? ? ?磁控濺射是一個運行模式的二級濺射。它與二，四級濺射的主要不同點；一是，在濺射的陰極靶后面設(shè)置了*磁鋼或電磁鐵。在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場或垂直分量的磁場，由氣體放電產(chǎn)生的電子被束縛在靶面附近的等離子區(qū)內(nèi)的特定軌道內(nèi)運轉(zhuǎn)；受電場力和磁場力的復(fù)合作用，沿一定的跑道作旋轉(zhuǎn)輪轉(zhuǎn)圈。? ? ? ?

• 真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備

  真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜（鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬）、七彩膜仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、**的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于工藝美術(shù)、裝潢裝飾，燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、女士鞋后跟等領(lǐng)域。磁控濺射鍍膜設(shè)備及技術(shù)可以再金屬或非金屬（塑料、玻璃、陶瓷）的工件鍍金屬鋁、銅、鈦金、鋯、銀、不銹鋼、鎳、鉬、硅、鈦鋁及金屬反應(yīng)物（氧化物、氮化物、炭化物）、

• 真空鍍膜機哪個好

  真空鍍膜機的種類繁多，接下來我們來拿磁控濺射鍍膜機來舉一下例子：該設(shè)備集控磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對提高顏色一致性，沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化系統(tǒng)等裝置，其靶位分布可靈活調(diào)整；膜層均勻性優(yōu)越；配備不同的靶材，可鍍制出心梗較好的復(fù)合膜層。設(shè)備所鍍的制的膜層具有附著力強，致密性高的優(yōu)點，可有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性，耐磨性及產(chǎn)品表面

• 磁控濺射鍍膜設(shè)備的優(yōu)點和缺點有哪些？

  在真空鍍膜技術(shù)中，磁控濺射鍍膜技術(shù)屬于比較常見的一種鍍膜技術(shù)。今天，廣東真空鍍膜設(shè)備廠家就告訴大家，磁控濺射鍍膜技術(shù)的優(yōu)點和缺點： 1、沉積速度快、基材溫升低、對膜層的損傷小； 2、對于大部分材料，只要能制成靶材，就可以實現(xiàn)濺射； 3、濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合較好； 4、濺射所獲得的薄膜純度高、致密度好、成膜均勻性好； 5、濺射工藝可重復(fù)性好，可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜； 6、能夠控制