美國 KRi 考夫曼離子源 KDC 40 熱蒸鍍機應(yīng)用

時間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：113

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  詞條說明

• 氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D 高真空排氣臺密封性泄露檢測

  氦質(zhì)譜檢漏儀高真空排氣臺密封性泄露檢測上海伯東某客戶生產(chǎn)研發(fā)多工位高真空和高真空排氣臺, 實現(xiàn)多工位同時抽真空的效果, 真空度需要穩(wěn)定在 -7 mbar, - 8 mbar, 包含真空系統(tǒng)在內(nèi)的多個組件, 均需要進行密封性泄露測試, 以保證高真空性能. 經(jīng)過上海伯東推薦真空系統(tǒng)**組件分子泵選用德國 Pfeiffer HiPace 系列, 并使用無油干式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340D?

• HVA 真空閥門用在氣體管路系統(tǒng)

  某半導(dǎo)體工廠在生產(chǎn)線上氣體輸送環(huán)節(jié)的氣體管路系統(tǒng)采用伯東?HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?，作為真空隔離密封.??HVA?不銹鋼真空閘閥?11000?系列標準技術(shù)規(guī)格:??閥門材質(zhì):?-?閥門主體?304?不銹鋼?-?焊接波紋

• 分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD

  渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng)?PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 可用來制備金屬和各種物質(zhì)薄膜, 甚至還用來制備一些難以合成的材料膜. 為了提高 PLD 系統(tǒng)的真空度和加快抽空時間, 經(jīng)過伯東選用分子泵+分子泵組串聯(lián)組合的形式來提高系統(tǒng)的真空度. 快達到其使用要求.渦輪分子泵組應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD 客戶案例一: 上海伯東某客戶選用美國相干 Coherent 公司出產(chǎn)的 COM

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機

  因產(chǎn)品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。HVA?高真空閘閥應(yīng)用于 OLED 鍍膜機OLED 鍍膜機主要面向半導(dǎo)體照明客戶, 需要鍍膜機性能穩(wěn)定, 器件效率高, *,HVA?高真空閘閥應(yīng)用一般科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar 或 5*10-8mbar, 這時需要配置分子泵系統(tǒng)或低溫泵