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半導體材料,如硅、鍺等,在制造過程中需經(jīng)歷數(shù)百道工序,每一步都對水質有著高的要求。純水,作為這些工序中的介質,其質量直接關系到終產(chǎn)品的品質。半導體制造中的清洗、蝕刻、光刻、化學氣相沉積等環(huán)節(jié),無一不需要純水的參與。純水的電阻率通常需達到18.2 MΩ·cm以上,這樣的水質標準幾乎接近理論純水的限,確保了半導體生產(chǎn)過程中不會引入任何雜質,從而保證了芯片的和穩(wěn)定性。為了滿足半導體對純水的高要求,現(xiàn)代純
反滲透水處理設備工藝技術特點在現(xiàn)代水處理領域中,反滲透(Reverse Osmosis,簡稱RO)技術以其、節(jié)能和環(huán)保的特點,成為了的一部分。該技術通過精細的過濾流程,實現(xiàn)了對水中雜質的去除,為多個行業(yè)提供了的純水。反滲透技術基于滲透原理,即在自然狀態(tài)下,水分子從低溶質濃度的一側通過半透膜向高溶質濃度一側遷移,直至兩側溶液濃度達到平衡。然而,反滲透過程則是通過向高溶質濃度一側施加壓力,迫使水分子逆
EDI超純水 是什么1.EDI超純水設備的工作原理電去離子(Electrodeionization 簡稱EDI)是將電滲析膜分離技術與離子交換技術有機地結合起來的一種新的制備超純水的技術,它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對填充在淡水室中的離子交換樹脂進行電化學再生。EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負電極組成。在直流電場的作用下,淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和
小型衛(wèi)生院污水處理設備是確保醫(yī)療廢水排放的重要設施,其工作原理涵蓋了物理、化學和生物等多個處理過程。本文將詳細闡述小型衛(wèi)生院污水處理設備的原理,包括其結構、工作流程以及處理效果等方面。,小型衛(wèi)生院污水處理設備通常由預處理系統(tǒng)、生物處理系統(tǒng)和系統(tǒng)等多個部分組成。預處理系統(tǒng)主要負責對污水進行初步處理,包括格柵除渣、調節(jié)水質和水量等步驟。格柵除渣能夠有效去除污水中較大的懸浮物和雜質,為后續(xù)處理創(chuàng)造良好條
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