KRI 離子源用于IR-cut紅外濾光片制備

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：118

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 上海伯東KRI離子源在半導(dǎo)體材料中的預(yù)清洗及刻蝕應(yīng)用

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• 美國(guó) HVA 真空閥門中國(guó)總代理

  上海伯東是美國(guó)?HVA 高真空和高真空閥門中國(guó)總代理!?HVA?是美國(guó)大的真空閥門制造商, 在美國(guó)有過四十年的歷史, 擁有6萬(wàn)平方英尺的全自動(dòng)加工工廠,?HVA?提供高質(zhì)量, 準(zhǔn)確, 客制化的真空閥門. 無(wú)論是生產(chǎn)線升級(jí), 還是新設(shè)備制造,?HVA?都能提供經(jīng)濟(jì)有效的閥門解決方案, 其中高真空閘閥現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體氣體管路和各

• 分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)

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  上海伯東某客戶在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中配置美國(guó)?KRi 考夫曼離子源?KDC 40, 進(jìn)行鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD 工藝, 通過同時(shí)的或連續(xù)的離子轟擊表面使原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等.離子源鍍膜前基片預(yù)清潔 Pre-clean 和輔助鍍膜 IBAD考夫曼離子源 KDC 40 到基片距離控制在 3