KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

時(shí)間：2024-01-12作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：115

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  上海伯東普發(fā) Pfeiffer?售后維修服務(wù)"?無論您想調(diào)試新的真空系統(tǒng), 故障排除, 維護(hù)保養(yǎng)還是維修, 上海伯東都能為您提供全面的支持并在較短的時(shí)間內(nèi)做出響應(yīng)! "伯東企業(yè)（上海）有限公司是德國(guó)普發(fā)真空 Pfeiffer Vacuum? 授權(quán)代理商, 隸屬于伯東株式會(huì)社, 外國(guó)法人資, 集團(tuán)年?duì)I業(yè)額過 10 億美金. 上海伯東自 1995年成立以來, 

• KRI 離子源用于鍍制1064nm窄帶濾光片激光膜

  ?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片是在各類玻璃材質(zhì)表面通過特殊的鍍膜工藝而形成的光學(xué)元件, 可以從入射光中選取任意所需求的波長(zhǎng), 半峰值一般在 5nm~50nm之間, 具有波長(zhǎng)定位準(zhǔn)確、透過高、截止深、溫漂小、性好、光潔度好的特點(diǎn), 是激光設(shè)備應(yīng)用中常見的濾光片解決方案.?? ? ? 1064nm 窄帶濾光片使用在

• KRI 離子源用于UVC人機(jī)共存紫外濾光片鍍膜

  ? ?? ?紫外濾光片是一種光學(xué)元件, 通過使用分散在玻璃材料表面的光學(xué)薄膜控制入射光通過膜層后不同波長(zhǎng)光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一個(gè)波段, 因?yàn)槠渖矬w透過率低, 被譽(yù)為對(duì)人體的紫外線.222nm遠(yuǎn)紫外產(chǎn)品一定程度上解決了傳統(tǒng)紫外線不能直接照射人體的痛點(diǎn)問題, 兼顧了功能性和性, 實(shí)現(xiàn)了人機(jī)友好共存, 有效減少和滅殺身體表面多達(dá)99.9%的細(xì)

• HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)

  因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。HVA 高真空閘閥應(yīng)用于 E-Beam 鍍膜機(jī)E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)用于在半導(dǎo)體, 光學(xué), **導(dǎo)材料等行業(yè)的研究與生產(chǎn), 比如基片蒸發(fā)沉積金屬, 導(dǎo)電薄膜, 半導(dǎo)體薄膜, 鐵電薄膜, 光學(xué)薄膜和介質(zhì)材料.E-Beam 鍍膜機(jī)設(shè)備組成:?系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室, 電子, 進(jìn)樣室 (可選) , 旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái), 工作氣